Мольков Сергей Иванович

Влияние процессов на стенках капилляра на параметры плазмы положительного столба разряда низкого давления

Проанализировано влияние эмиссии вторичных электронов, ион-электронной и фотоэмиссии, а также термализации атомов и ионов на стенках капилляра на параметры плазмы положительного столба разряда низкого давления. Рассмотрена роль степени шероховатости поверхности стенки разрядного капилляра в данных процессах.

Сборник

Все статьи сборника:


Только зарегистрированные пользователи могут оставлять комментарии. Пожалуйста, зарегистрируйтесь.

Описание документа
Мольков С. И. Влияние процессов на стенках капилляра на параметры плазмы положительного столба разряда низкого давления / С. И. Мольков // Учен. зап. Петрозавод. гос. ун-та. Сер.: Естественные и технические науки. - 2012. - № 2 (123). - С. 88-94. — URL: http://elibrary.petrsu.ru/books/19837 (дата обращения: 18.07.2024)

Издатель: Издательство ПетрГУ

Copyright: Петрозаводский государственный университет

Место издания: Петрозаводск

Год издания: 2012